TiC-CVD　概要｜株式会社足立熱処理研究所｜熱処理全般｜CVD(気相化学蒸着)法コーティング｜TIC+TIN二層コーティング｜SICコーティング｜真空焼入れ

ＣＶＤ法とは、Chemical Vapor Deposition の略称で、Ｔｉｃｌ４（四塩化チタン）がＨ２（水素）によって反応部へ運ばれ、別のメタン流と混合されて、１０００℃前後に加熱された母材の表面層に銀色のＴｉＣ（炭化チタン）を生成させるものです。

CVDによりセラミック皮膜をコーティングされた金属表面層は、硬度HV3200程度となり、クロムメッキ・窒化法・PVD法・と比べて、耐摩耗性・耐熱性・耐剥性及び、密着強度に優れ金型等では、その耐用寿命を飛躍的に延ばす事が出来るようになりました。

当社のTiC皮膜は、強靭な耐摩耗性に加え、独自の方法により更に耐酸化性を上げる事に成功。

高い耐酸化性と密着強度の強い皮膜は、当社のTiCの最大の特徴であり、順調に実績を上げ、お客様から高い評価を頂いております。

◆ＣＶＤ装置

・有効ゾーン　　　　Φ３００　Ｘ　８３０

・納期　　　　　　　　　　１週間

・膜厚　　　　　　　　　６～８μ

・硬度　　　　　　ＨＶ３２００～３５００

◆超大型ＣＶＤ装置

・有効ゾーン　　　Φ６００　Ｘ　５１０

・納期　　　　　　　　　要相談

・膜厚　　　　　　　　　６～８μ

・硬度　　　　　ＨＶ３２００～３５００

TiC-CVD 概要